炉管(Furnace)设备工艺经验8年笔记

博主5年前 (2021-01-30)半导体技术精帖324160
炉管(Furnace)设备工艺经验8年笔记
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Implant SIMS笔记(离子注入机二次离子质谱笔记)

小蜜蜂5年前 (2021-01-24)半导体技术资料87930
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       首先，我们来看下什么是SIMS？        技术原理（https://w…
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LPCVD多晶硅（Poly）的形貌和显微结构研究

博主6年前 (2021-01-17)半导体技术资料94280
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        研究了低压化学气相沉积（LPCVD）多晶硅薄膜的形貌和微观结构与沉积条件的关系。   &nbs…
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关于碳化硅SiC栅氧（Gate Oxide）以及NO 退火

博主6年前 (2021-01-16)半导体技术资料66710
关于碳化硅SiC栅氧（Gate Oxide）以及NO 退火
1. Introduction       我们生活在一个能源匮乏的世界，在这个世界上，工业化和全球化已经成为一种趋势加速了对资源的需求，现在大约每40年翻一番…
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理解微电子中的FinFET结构

博主6年前 (2021-01-02)半导体技术资料39430
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