光刻机之战 2(续)
《光刻机之战》发表后，得到超过60家科技和财经类公众号转载，全网阅读更是超过百万。“光刻机”这个对大众奇怪又陌生的词，通过贸易战和华为事件被放大了很多倍，让大家知道了中国制造最大的短板是什么。在知乎上，出现了氢弹和光刻机做哪个更难的热烈讨论。也有读者问，凭举国之力，我们是不是花十年可以做出先进光刻机来呢？为什么一台最新的光刻机可以卖到超过一亿美金？一、我很有幸得到荷兰作者René Raa
光刻机
专题-1(Adv): Unit Process–Lithography (微影制程) （转）
本文转自芯苑，ic-garden.cn （由于芯苑会经常关闭站点，故转载存留） 最早的《专题1》讲的是光刻入门，其实就是个概念。后面逐渐各项制程都慢慢进入第二轮稍微深入一点，希望能够把书本理论讲完吧。黄光我做的比较少，还是以前调机的时候David天天逼着我去搞Nikon G7，还要拿个摇杆手动对位，X,Y, Theta无聊死了~~不过老板每次都要考核，所以还是好好学习吧，至少
