解析

转:全方位解析SiC的产业化之路

第一代半导体材料主要是指硅(Si)、锗元素(Ge)半导体材料,应用极为普遍,包括集成电路、电子信息网络工程、电脑、手机、电视、航空航天、各类军事工程和迅速发展的新能源、硅光伏产业中都得到了极为广泛的应用;第二代半导体材料主要是指化合物半导体材料,如砷化镓(GaAs)、锑化铟(InSb),主要用于制作高速、高频、大功率以及发光电子器件(LED),是制作高性能微波、毫米波器件及发光器件的优良材料。Si

解析碳化硅外延材料产业链

与传统硅功率器件制作工艺不同的是,碳化硅功率器件不能直接制作在碳化硅单晶材料上,必须在导通型单晶衬底上额外生长高质量的外延材料,并在外延层上制造各类器件。碳化硅一般采用PVT方法,温度高达2000多度,且加工周期比较长,产出比较低,因而碳化硅衬底的成本是非常高的。碳化硅外延过程和硅基本上差不多,在温度设计以及设备的结构设计不太一样。在器件制备方面,由于材料的特殊性,器件过程的加工和硅不同的是,采用

《Bipolar/三极管》的深度解析(转)

本文转自芯苑,ic-garden.cn (由于芯苑会经常关闭站点,故转载存留) 编者注:感谢老唐,让我暑假加入重庆邮信半导体,我喜欢动手其乐无穷,那时候虽然做的3inch,7um的Bipolar,在金相显微镜下用镜头上的刻度尺量测,现在想想好低端,但那时候对我来说觉得好伟大。第一次当我自己扎上我自己的device时,那种开心溢于言表。这些年BJT的东西坦白讲看的很少,都是学校学的,但是真