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专题-1(Adv): Unit Process–Lithography (微影制程) (转)

 本文转自芯苑,ic-garden.cn (由于芯苑会经常关闭站点,故转载存留) 最早的《专题1》讲的是光刻入门,其实就是个概念。后面逐渐各项制程都慢慢进入第二轮稍微深入一点,希望能够把书本理论讲完吧。黄光我做的比较少,还是以前调机的时候David天天逼着我去搞Nikon G7,还要拿个摇杆手动对位,X,Y, Theta无聊死了~~不过老板每次都要考核,所以还是好好学习吧,至少

光刻胶综述:光刻胶的作用、分类

光刻胶和光刻机是半导体产品制造必须打两大关键材料。光刻胶又称光致抗蚀剂(photoresist), 是利用光化学反应进行图形转移的媒体,它是一类品种繁多、性能各异,应用极为广泛的精细化学品,本文主要介绍在电子工业中应用的各类光刻胶。电子工业的发展与光刻胶的发展是密切相关的。光刻胶的发展为电子工业提供了产业化的基础,而电子工业的发展又不断对光刻胶提出新的要求,推动光刻胶的发展。由于电子工业的飞速发展