芯片制造工艺问答037：PHO recipe的Focus设定值往正"+"调整后PR profile会有何影响?
Ans positive: 往正调整会造成所谓的”削头”的情形,如下图所示 negative:往负调整会造成所谓的”解不开”的情形,如下图所示
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芯片制造工艺问答018： iline和DUV分别用什么样式的光阻? 试列表比较各光阻特性?
Ans To achieve sub-wavelength lithography results,
resist technology - like the phase shifting masks (PSMs), scanner optics and
inspection techniques - is pushed to its absolute limit. Most importantl
专题-1(Adv): Unit Process–Lithography (微影制程) （转）
本文转自芯苑，ic-garden.cn （由于芯苑会经常关闭站点，故转载存留） 最早的《专题1》讲的是光刻入门，其实就是个概念。后面逐渐各项制程都慢慢进入第二轮稍微深入一点，希望能够把书本理论讲完吧。黄光我做的比较少，还是以前调机的时候David天天逼着我去搞Nikon G7，还要拿个摇杆手动对位，X,Y, Theta无聊死了~~不过老板每次都要考核，所以还是好好学习吧，至少
专题-1: Unit Process–Photolithography （转）
本文转自芯苑，ic-garden.cn （由于芯苑会经常关闭站点，故转载存留） 随着半导体特征尺寸(Moore's Law)下降，需要越来越小的波长得到更小的曝光线宽(大波长容易衍射)。5、6寸时代都是g-line/i-line，8寸开始i-line/DUV了。HMDS是一种蒸汽，在Coat光阻之前必须在HMDS蒸气中熏一会，有助于光阻的表面粘附性(Contact Angle)，Coat
