1. 首页
  2. 芯片制造
  3. 工艺技术问答

芯片制造工艺问答013： 何谓Epi-Wafer? 对产品有何影响?

2378 阅读 0 评论

温馨提示! 升级 VIP 1 免费浏览，你当前 未登录
升级VIP 1
点赞(80) 打赏
最通俗易懂的光刻机原理介绍
最通俗易懂的光刻机原理介绍
芯片制造工艺问答037：PHO recipe的Focus设定值往正"+"调整后PR profile会有何影响?
芯片制造工艺问答037：PHO recipe的Focus设定值往正"+"调整后PR profile会有何影响?
芯片制造工艺问答036：PHO Overlay shift的原因及现象有哪些? 其中有多少种可以经由给机台补偿改善?
芯片制造工艺问答036：PHO Overlay shift的原因及现象有哪些? 其中有多少种可以经由给机台补偿改善?
芯片制造工艺问答035： Lot to lot, within lot wafer to wafer, within wafer, within field.
芯片制造工艺问答035： Lot to lot, within lot wafer to wafer, within wafer, within field.

评论列表 共有 0 条评论

暂无评论

微信小程序

微信扫一扫体验

 立即
投稿

微信公众账号

微信扫一扫加关注

 发表
评论 返回
顶部

© 2017-2021. All Rights Reserved.
沪ICP备16025735号-2