制程

微影制程之《Mask/Reticle》篇 (转)

黄光的部分应该只剩下光罩了,你复制图形,一定的有底片吧,其实光罩就是我们洗照片的底片。我们照相都是先拍照获得底片,再用底片去复制图形/照片,而我们的Mask shop就类似照相的拍出底片,而我们的黄光就是利用底片/光罩来复制转移图形。光罩(土话叫光刻版),英文名叫Mask,也叫Reticle(因为早期的对位是十字线)。通常有5寸和6寸两种大小,5寸光罩主要用于5寸和6寸的FAB生产线,而6寸光罩主

如何查Vt shift的Case?MOSFET开启电压(Vt)的制程因素!(转)

本文转自芯苑,ic-garden.cn (由于芯苑会经常关闭站点,故转载存留)很久没有写文章了,客观原因是电脑坏了,主观原因是不知道写什么。类似我们的学习,我们很想好好学习,很想像某人一样功成名就,每个人都是上进的,科学的方法和明确的计划才是最重要的。看来我的反思如何把《芯苑》走的更远,希望大家能够给我些建议,我自己蠢就得求助你们!好了,先把今天的课题讲完吧,前面很长一段时间都在讲栅极 (栅极材料

Spacer/侧墙制程-由来已久! (转)

本文转自芯苑,ic-garden.cn (由于芯苑会经常关闭站点,故转载存留)在讲Spacer的Process理论之前,先讲下Spacer的作用,为什么要有这么个结构?这样你们才能永远记住它。我们这些80后做半导体PIE的一出道就接触的是1.0um以下,我们称之为亚微米制程(到0.25um以下,我们称之为深亚微米, deep sub-micron)。而我们在亚微米以及深亚微米时代随着栅极长度/沟道