ASML

专题-1(Adv): Unit Process–Lithography (微影制程) (转)

 本文转自芯苑,ic-garden.cn (由于芯苑会经常关闭站点,故转载存留) 最早的《专题1》讲的是光刻入门,其实就是个概念。后面逐渐各项制程都慢慢进入第二轮稍微深入一点,希望能够把书本理论讲完吧。黄光我做的比较少,还是以前调机的时候David天天逼着我去搞Nikon G7,还要拿个摇杆手动对位,X,Y, Theta无聊死了~~不过老板每次都要考核,所以还是好好学习吧,至少

荷兰的半导体产业为何如此发达?

来源:OFweek中国高科技行业门户提到半导体设备,我们不得不提荷兰的ASML,它是全球高端光刻机的龙头企业;说到车用半导体,几乎都知道恩智浦,作为该领域市场份额最大的供应商,影响力非常大;若想采购到最先进的医疗电子设备,荷兰飞利浦是个不错的选择……还有芯片厂商安世半导体等众多知名的半导体企业。荷兰的半导体产业非常完善,除了上面那几家,还有大量的中小企业在半导体设计、测试和模拟及MEMS、光电子等

台积电是怎么炼成的

1月以来,台积电被推上了风口浪尖,有传闻说,美国正在向台积电施压,阻止它代工华为的芯片,以便对华为实现釜底抽薪。为什么台积电是华为的命门?原因很简单:华为负责的是芯片设计,但是要造出能用的芯片,还需要芯片制造代工厂。简单说,华为画出了精美的装修图纸,但施工落地,还得靠台积电。而且更为可怕的是,台积电作为芯片业的施工队,已经走上了一家独大的道路:从市场占有率来看,台积电的份额已经超过了一半,产能上有

最通俗易懂的光刻机原理介绍

光刻机,是现代光学工业之花,是半导体行业中的核心技术。可能有很多人都无法切身理解光刻机的重要地位,光刻机,是制造芯片的机器,要是没有了光刻机,我们就没有办法造出芯片,自然也就不会有我们现在的手机、电脑了。光刻机是用于芯片制造的核心设备,按照用途可以分为用于生产芯片的光刻机、用于封装的光刻机和用于LED制造领域的投影光刻机。光刻机的核心原理就是一个透镜组,在精度上首先咱们有个概念:我们现在芯片的线条

欧洲芯片简史:这家荷兰公司,扼住了全球半导体芯片的咽喉

倒霉的尼康都没机会当小角色       在和阿斯麦关于“浸润式”和“干式”投影的技术路线争斗中,尼康只是打了一场败仗,而让它真正一败涂地的,还是在euv光刻机的研发中,被美国直接排除在外。这个时间点需要推移到“浸润式光刻”方案出现之前。在上面讲到的“浸润式光刻”方案中,光源采用波长为193nm的氟化氩激光。随着摩尔定律的推进,氟化氩激光的潜能很快被“浸润式光

DUV和EUV光刻机的区别在哪

一、DUV技术由日本和荷兰独立发展:ArF干法后期两大路径之争,ArF湿法胜于F2。2002年DUV技术在干法ArF后期演化成2条主要进化方向:其一是用157nm的F2的准分子光源取代193nm的ArF光源。该方法较浸没式ArF更为保守,代表厂商是尼康和佳能。其二,采用台积电林本坚的方案,依然使用193nm的ArF光源,但是将镜头和光刻胶之间的介质由空气改成液体。193nm的光经过折射后,等效波长

光刻机40年资本局:尼康起高楼,ASML宴宾客,美国楼塌了

前言:科技大国的资本局已经到了临界点,是否限制中国购买设备成为越来越紧迫的压力,需要这42位局中人做出选择。成也政治,败也政治,将是光刻机的宿命。以下文章来源于橙子不糊涂 ,作者橙子不糊涂2019年,尼康总共销售了47台光刻机,占全市场的13%,还不如自己的难兄难弟佳能。不过虽然佳能销售了82台,但是集中在第一、第二代古老的光刻机,别说高端市场,连中端市场都没什么存在感。01尼康起高楼,

阿斯麦从商业上看是一家可怜的公司

本文2018年12月18日首发于本人同名雪球原创专栏上半年因为中兴通讯的事儿,和另一个网友在雪球的帖子里争了几句,结果被主帖楼主拉黑,其实我对那个楼主还是很尊重的,知识面比较广。一直想论述一下,国内对芯片业的讨论,绕不过去的一家公司——阿斯麦,几乎是唯一的EUV光刻机公司,我想通过自己的论述表明,从商业上看(不是从技术上),这是一家很可怜的公司,没什么了不起的。首先看一看阿斯麦的基本情况。一)目前