Chemical

芯片制造,洗洗更健康

在芯片制造过程中,“清洗”步骤虽然不起眼,但它占整个制造工序步骤30%以上,不可轻忽。那么国产的半导体清洗设备发展情况如何?本文是“果壳硬科技”策划的“国产替代”系列第七篇文章,关注半导体清洗设备国产替代。在本文中,你将了解到:为什么要在芯片生产过程中使用清洗技术,清洗设备有什么关键技术点,国内外清洗设备市场情况。付斌丨作者李拓丨编辑果壳硬科技丨策划一、遇事不决洗一洗半导体中的清洗技术是指在氧化、

RCA标准清洗法详解

RCA标准清洗法RCA标准清洗法是1965年由Kern和Puotinen 等人在N.J.Princeton的RCA实验室首创的,并由此而得名。RCA标准清洗法是1965年由Kern和Puotinen 等人在N.J.Princeton的RCA实验室首创的,并由此而得名。RCA是一种典型的、至今仍为最普遍使用的湿式化学清洗法,该清洗法主要包括以下几种清洗液。(1)SPM:H2SO4 /H2O2 120