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基于XILINX的28nm从三重氧化物到HIGH-K详细分析与前景

近10年来,当集成电路进入亚微米阶段,当人们享受到摩尔定律带来的好处时, 一朵乌云,一直笼罩在集成电路业界的上空,就是越来越严重的跑冒滴漏现象。 作为集成电路的最基本组成单元,晶体管,当尺寸越来越小的时候,漏电缺越来越严重,不仅传统漏电的地方漏,本来不该漏电的地方也开始从涓涓细流满满发展成波涛汹涌。 就像上图的那个漏水的水龙头。刚开始,漏水的地方主要是出水口和进水口直接的部分, 因为水流主要在这里