Nitride

Spacer/侧墙制程-由来已久! (转)

本文转自芯苑,ic-garden.cn (由于芯苑会经常关闭站点,故转载存留)在讲Spacer的Process理论之前,先讲下Spacer的作用,为什么要有这么个结构?这样你们才能永远记住它。我们这些80后做半导体PIE的一出道就接触的是1.0um以下,我们称之为亚微米制程(到0.25um以下,我们称之为深亚微米, deep sub-micron)。而我们在亚微米以及深亚微米时代随着栅极长度/沟道

半导体晶圆制造基础知识

1.      ZERO OXIDE 的作用是什么?第一是为后序的ZERO PHOTO时做PR的隔离,防止PR直接与Si接触,造成污染。PR中所含的有机物很难清洗。第二,WAFTER MARK是用激光来打的,在Si表面引致的融渣会落在OXIDE上,不会对衬底造成损伤。第三是通过高温过程改变Si表面清洁度。2.     

炉管(Furnace)设备工艺经验8年笔记

Furnace IntroductionØFurnace concept(炉管基本介绍)ØFurnace Type (炉管的分类)ØWafer transfer system (炉管传送系统介绍)ØProcess application(工艺应用); AP and LP Recipe body ;Furnace Gas Flow; Profile log(温