炉管(Furnace)设备工艺经验8年笔记

admin 12896 阅读 1 评论 384 点赞

温馨提示! 你需要支付 ￥4.00 元后才能查看付费内容

微信支付支付宝支付余额支付

点赞(384) 打赏

本文分类：制造工艺技术
本文标签：炉管 Furnace 笔记 TEL ASM NAURA 工艺笔记 Process Wetoxide Dryoxide GateOxide TEOS Poly Nitride LPCVD Diffusion 扩散 HTO SiO2 Alloy Wafer Pressure Temperature Recipe Profile ThermalOxide
浏览次数：12896 次浏览
发布日期：2021-01-30 07:04:16
本文链接：http://blog.iccourt.com/process/309.html

上一篇 > Implant SIMS笔记(离子注入机二次离子质谱笔记)
下一篇 > PECVD SiNx 薄膜应力的研究(含文档下载)

评论列表共有 1 条评论

: 2822497769 3年前回复TA
一看就是fab出来的人，内容比较贴近生产，细致，信息量足！

发表评论取消回复

微信小程序

微信扫一扫体验

微信公众账号

微信扫一扫加关注

发表
评论返回
顶部

© 2017-2021. All Rights Reserved.
沪ICP备16025735号-2