光罩

微影制程之《Mask/Reticle》篇 (转)

黄光的部分应该只剩下光罩了,你复制图形,一定的有底片吧,其实光罩就是我们洗照片的底片。我们照相都是先拍照获得底片,再用底片去复制图形/照片,而我们的Mask shop就类似照相的拍出底片,而我们的黄光就是利用底片/光罩来复制转移图形。光罩(土话叫光刻版),英文名叫Mask,也叫Reticle(因为早期的对位是十字线)。通常有5寸和6寸两种大小,5寸光罩主要用于5寸和6寸的FAB生产线,而6寸光罩主

笔记:光刻技术问与答

何谓DUV? 答:曝光过程中用到的光,其波长为248nm,其波长较短,因此曝光完成后的图形分辨率较好,用于较为重要的制程中。 I-line与DUV主要不同处为何? 答:光源不同,波长不同,因此应用的场合也不同。I-Line主要用在较落后的制程(0.35微米以上)或者较先进制程(0.35微米以下)的Non-Critical