笔记：光刻技术问与答
何谓DUV？ 答：曝光过程中用到的光，其波长为248nm，其波长较短，因此曝光完成后的图形分辨率较好，用于较为重要的制程中。 I-line与DUV主要不同处为何? 答：光源不同，波长不同，因此应用的场合也不同。I-Line主要用在较落后的制程（0.35微米以上）或者较先进制程（0.35微米以下）的Non-Critical
光罩
芯片制造工艺问答019：ODR光罩和OD光罩有何关系? 试画图解释之.
Ans ODR之用途在于减少CMP时之loading effect. ODR和OD光罩之关系式如下: ODR(121)=(((120
sizing –0.4) sizing 0.4) sizing –0.2)if
OD< 0.4um OD (yellow color) will be regarded as
微影制程之《Mask/Reticle》篇 （转）
黄光的部分应该只剩下光罩了，你复制图形，一定的有底片吧，其实光罩就是我们洗照片的底片。我们照相都是先拍照获得底片，再用底片去复制图形/照片，而我们的Mask shop就类似照相的拍出底片，而我们的黄光就是利用底片/光罩来复制转移图形。光罩(土话叫光刻版)，英文名叫Mask，也叫Reticle(因为早期的对位是十字线)。通常有5寸和6寸两种大小，5寸光罩主要用于5寸和6寸的FAB生产线，而6寸光罩主
