芯片

半导体厂商如何做芯片的出厂测试?

我觉得这个问题就是为我量身定制的!作为前Teradyne ATE工程师,现AMD DFT+数字IC设计工程师,以亲身项目经验,来谈谈这个问题。先来说一下完整的测试流程,再针对题主的两个问题回答一下。一、芯片测试概述芯片测试分两个阶段,一个是CP(Chip Probing)测试,也就是晶圆(Wafer)测试。另外一个是FT(Final Test)测试,也就是把芯片封装好再进行的测试。CP测试的目的就

半导体芯片制造中 BPSG 是什么?

硼磷硅玻璃(boro-phospho-silicate-glass,BPSG):这是一种掺硼的SiO2玻璃。可采用CVD方法(SiH4+O2+PH3+B2H6,400oC~450oC)来制备。BPSG与PSG(磷硅玻璃)一样,在高温下的流动性较好,广泛用作为半导体芯片表面平坦性好的层间绝缘膜。PSG要求的回流温度很高大约1100℃,高温处理容易引起杂质浓度再扩散和硅片变形,以往PSG增加P的含量可

第三代半导体材料之碳化硅(SiC)[转]

碳化硅(SiC)材料是功率半导体行业主要进步发展方向,用于制作功率器件,可显着提高电能利用率。可预见的未来内,新能源汽车是碳化硅功率器件的主要应用场景。特斯拉作为技术先驱,已率先在Model 3中集成全碳化硅模块,其他一线车企亦皆计划扩大碳化硅的应用。随着碳化硅器件制造成本的日渐降低、工艺技术的逐步成熟,碳化硅功率器件行业未来可期。【什么是碳化硅?】碳化硅(SiC)是第三代化合物半导体材料。半导体

【芯片】我在中芯国际的往事&中芯国际深度解析

导读:以下评论来自我们会员投的芯片公司创始人。这个产业需要技术/人/时间的积淀,很难跨越式发展。他们也是在摸索了数年,交了很多辆奔驰车的学费之后,才做出了细分领域唯一能量产交货的产线。真正跑过芯片线都会像这篇文章一样体会到:芯片制造最重要的要素就是协作!协作!协作!这也是中国做芯片生产最难!最难!最难掌握的核心技术,没有之一!生产一片wafer,需要近百号人,上百道工序,一个月不分昼夜,一“纳”不

【芯片】我在中芯国际的往事&中芯国际深度解析

导读:以下评论来自我们会员投的芯片公司创始人。这个产业需要技术/人/时间的积淀,很难跨越式发展。他们也是在摸索了数年,交了很多辆奔驰车的学费之后,才做出了细分领域唯一能量产交货的产线。真正跑过芯片线都会像这篇文章一样体会到:芯片制造最重要的要素就是协作!协作!协作!这也是中国做芯片生产最难!最难!最难掌握的核心技术,没有之一!生产一片wafer,需要近百号人,上百道工序,一个月不分昼夜,一“纳”不

芯片霸权,中国逆战!

以下文章来源于华商韬略 ,作者华商韬略除了胜利,中国人已经无路可走。作 者丨陈石磊华商韬略·华商名人堂 ID:hstl8888图片:网络、图虫创意中美之间,正爆发一场芯片战争。012020年5月16日,美国商务部工业与安全局(BIS)突然宣布,将全面限制华为购买采用美国软件和技术生产的半导体,包括美国以外被列入管制清单的生产设备,在为华为和海思生产代工前,都要获得美国允许。这意味着,由台

国产替代率篇 · 一张图看懂ICT国产核心器件替代率(转)

【编者按】中美贸易战,美国以芯片为筹码来遏制中国高科技产业以及经济的发展。在这样的背景下,中国亟需推动自主创新,做大做强自家芯片。然而,目前中国芯片发展存在诸多症结。为此,集微网设立“国产芯片如何破局”专题,分别从国产替代率、政府采购、产业生态等多个角度进行深入剖析和展开,也欢迎分享宝贵建议!集微网梳理了ICT行业20多类核心器件,统计发现:除了机械硬盘(HDD)领域没有任何可替代方案之外,其余核

台积电是怎么炼成的

1月以来,台积电被推上了风口浪尖,有传闻说,美国正在向台积电施压,阻止它代工华为的芯片,以便对华为实现釜底抽薪。为什么台积电是华为的命门?原因很简单:华为负责的是芯片设计,但是要造出能用的芯片,还需要芯片制造代工厂。简单说,华为画出了精美的装修图纸,但施工落地,还得靠台积电。而且更为可怕的是,台积电作为芯片业的施工队,已经走上了一家独大的道路:从市场占有率来看,台积电的份额已经超过了一半,产能上有

绿能芯创CEO廖奇泊:第三代半导体芯片的历史、机遇与挑战

绿能芯创CEO廖奇泊在“未名创星论坛第四期——中国芯,强国梦”活动中发表演讲,以下为演讲内容,已经作者确认,略有删减: 绿能芯创CEO廖奇泊三代半导体的不同应用 刚才有人问我说是不是碳化硅出来以后,硅基产品就没有用了?是不是氮化镓出来以后碳化硅基产品就没有用了?其实它们根据不同特性分别占据了不同的领域。大家可以看这张图横坐标越往右边的表示你的电压越大,纵坐标越往上面的表示你的频

欧洲芯片简史:这家荷兰公司,扼住了全球半导体芯片的咽喉

倒霉的尼康都没机会当小角色       在和阿斯麦关于“浸润式”和“干式”投影的技术路线争斗中,尼康只是打了一场败仗,而让它真正一败涂地的,还是在euv光刻机的研发中,被美国直接排除在外。这个时间点需要推移到“浸润式光刻”方案出现之前。在上面讲到的“浸润式光刻”方案中,光源采用波长为193nm的氟化氩激光。随着摩尔定律的推进,氟化氩激光的潜能很快被“浸润式光