专题-2: Unit Process–ThinFilm(转)
本文转自芯苑,ic-garden.cn (由于芯苑会经常关闭站点,故转载存留) ThinFilm(薄膜)主要包含CVD和PVD,CVD(Chemical Vapor Deposition)主要依靠反应气体在等离子体电离能量下,化学分解反应,主要用语后端温度比较低(~400,450C)。而PVD(Physical Vapor Deposition)主要是用来金属沉积,因为很少有金属的气态化
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