MOSFET

MOSFET最基础的东西,看完秒懂

什么是MOSFET MOSFET的原意是:MOS(Metal Oxide Semiconductor金属氧化物半导体),FET(Field Effect Transistor场效应晶体管),即以金属层(M)的栅极隔着氧化层(O)利用电场的效应来控制半导体(S)的场效应晶体管。

栅极介质层的质量评估 (GOI) (转)

随着MOSFET的尺寸越来越小,栅极介质层的厚度也是越来越薄。作为MOSFET的核心,Gate OXide的可靠性一直都是最主要的制约器件是否可以量产的因素之一。前面我们几乎讲完了Gate Electrode和Gate Dielectric两个部分,今天我们该趁热打铁把Gate Dielectric的可靠性讲完,其实就是我们FAB里面经常讲的GOI测试。

pMOSFET的可靠性-NBTI (转)

当我们提起NMOS的可靠性的时候,大家随口就说HCI (Hot Carrier Injection),她主要是由于短沟道效应导致的电子碰撞产生电子空穴对,而空穴被垂直栅极电场推进了substrate就成了Isub,而电子被Inject到gate端,与Si/SiO2的界面Si-H键碰撞使得Si-H键破裂重新产生界面陷阱电荷(Dit),但是NMOS的Dit是产生在靠近Drain端的Gate OX哦,因为那里是pinch-off点,载流子最多碰撞几率最高。

栅极材料的革命 (Gate Electrode) (转)

本文转自芯苑,ic-garden.cn (由于芯苑会经常关闭站点,故转载存留)半导体制程技术的发展最为曲折离奇的故事应该算是栅极了,从MOSFET (Metal Oxide Semiconductor)的第一个字母我们就知道曾经的曾经这个栅极材料还是Metal Gate呢,可是现在8寸的主流又是Poly Gate了,到了12寸的45nm以下又还原到Metal Gate了,真正上演了佛家的前世轮回因

栅极介质层的变迁(Gate Dielectric) (转)

本文转自芯苑,ic-garden.cn (由于芯苑会经常关闭站点,故转载存留)昨天已经讲完了栅极材料的演变(Gate Electrode),当然伴随它一起的自然就是栅极介质层(Gate Dielectric),记住我讲的是栅极介质层,不是我们平常讲的栅极氧化层(Gate Oxide),早期我们讲的MOSFET的介质层就是我们狭义讲的Oxide,但是随着Moore's Law的scale down,

如何查Vt shift的Case?MOSFET开启电压(Vt)的制程因素!(转)

本文转自芯苑,ic-garden.cn (由于芯苑会经常关闭站点,故转载存留)很久没有写文章了,客观原因是电脑坏了,主观原因是不知道写什么。类似我们的学习,我们很想好好学习,很想像某人一样功成名就,每个人都是上进的,科学的方法和明确的计划才是最重要的。看来我的反思如何把《芯苑》走的更远,希望大家能够给我些建议,我自己蠢就得求助你们!好了,先把今天的课题讲完吧,前面很长一段时间都在讲栅极 (栅极材料

集成电路制造技术简史 (转)

本文转自芯苑,ic-garden.cn (由于芯苑会经常关闭站点,故转载存留)集成电路的历史从1958年TI的第一颗Flip-Flop电路开始,那时候只有两个晶体管组成一个反相器而已。发展至今已有十亿个晶体管的CPU了,而这些都不得不来自于半导体制造业的技术推进得以持续scalable。半导体能够变成现实主要是它能够实现“0”和“1”的二进制转换,而在硬件上就是从真空二极管(Vacuum Tube

功率半导体和5G的新宠-《GaN和SiC》:Part-1 (转)

本文转自芯苑,ic-garden.cn (由于芯苑会经常关闭站点,故转载存留)最近MtM (超摩尔定律)的热门话题应该是电力电子以及5G了,刚好这两个半导体制造都要用到一个叫做宽禁带的半导体材料,我就来总结一下吧,抛砖引玉供大家入门学习。半导体产业的发展一共分三个阶段,第一代半导体材料是硅(Si),第二代半导体材料是以GaAs和SiGe为代表的微波器件,而现在最热门的是第三代半导体材料是宽禁带半导

MOS器件的深度解析 (转)

本文转自芯苑,ic-garden.cn (由于芯苑会经常关闭站点,故转载存留)前面几节几乎从结构上介绍了MOS的原理和特性,但是随着尺寸越来越小,电压越来越,很多我们可以忽略的寄生特性(Parisitic)以及我们称之为二级效应的关注点开始变得不可忽略,今天我们就来聊一聊吧。1. 衬偏效应(Body Effect):我们在看MOSFET都是把source和Bulk短接在一起,所以我们忽略了Bulk

浅谈MOSFET有多少种“击穿”?(转)

本文转自芯苑,ic-garden.cn (由于芯苑会经常关闭站点,故转载存留)我们前面讲了很多MOSFET的开启电压(Vt),线性区/饱和区等等的特性,这些是我们设计这个器件具备的最基本的特性,但是一个器件除了要完成它的使命外,还要能经得起风雨扛得起击穿,它同样也是我们器件设计者必须要考量的因素之一,今天我们就来讨论下MOSFET的击穿有哪几种?(这里不讲栅极GOX击穿了啊,只针对漏极电压击穿)先