栅极介质层的变迁(Gate Dielectric) （转）

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本文分类：制造工艺技术
本文标签：栅极栅极介质层 SiO2 Diffusion Furnace ISSG HighK工艺 High-K Gate GateOxide GOX WetOxide DryOxide Oxide MOSFET
浏览次数：5438 次浏览
发布日期：2019-06-15 12:32:40
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